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技术创新门限效应研究——基于知识产权保护与技术差异视角

2016-04-10分类号:F224;F204

【作者】党国英  刘朝阳  罗明灿  
【部门】西南林业大学  云南大学  
【摘要】本文利用中国30个省市区2000~2012年数据,采用面板门槛模型,基于知识产权保护与技术差异视角,对技术创新的门限效应进行研究。结果表明,知识产权保护的技术创新效应存在着明显的技术差异与知识产权保护门槛。不管以知识产权保护还是以技术差异作为门槛变量,加强研发物质资本与人力资本投入均能显著促进我国各省区技术创新水平。
【关键词】知识产权保护  技术差异  技术创新  门限效应  门槛模型  地区差异
【基金】云南省教育厅资助项目(项目编号:515006004)
【所属期刊栏目】工业技术经济
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