【摘要】本文以中国高技术产业13个细分行业1997~2011年面板数据为研究样本,利用面板门限回归模型对FDI研发活动对内资企业生产率增长的影响,以及内资企业技术吸收能力在FDI技术溢出过程中的门槛特征进行分析。研究结果显示:FDI研发活动对内资企业存在正向技术溢出效应;内资企业研发资金强度和研发人员强度对FDI技术溢出有非线性影响,并存在显著的单门限效应,当超过各自的门限值时,FDI的技术溢出效应均有显著提高。另外,内资企业研发投入、对外开放程度都是生产率增长的重要影响因素,但企业规模对生产率增长没有显著影响。