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知识产权保护、技术创新与品牌成长——基于门槛面板回归分析

2015-07-18分类号:F273.1;F273.2

【作者】王分棉  程立茹  王建秀  
【部门】对外经济贸易大学国际商学院  中央民族大学管理学院  
【摘要】文章研究了知识产权保护与技术创新对品牌成长的影响,利用2004—2012年28省份的面板数据,在经验上考察了知识产权保护与技术创新对品牌成长的影响。研究结果显示,技术创新对品牌成长具有显著正向影响;知识产权保护对品牌成长有显著的正向直接影响,同时又显著调节了技术创新对品牌成长的影响,且其调节作用具有显著的正向单一门槛特征。在此基础上,进一步利用门槛回归模型测算了知识产权保护调节作用的门槛水平。
【关键词】品牌成长  技术创新  知识产权保护  门槛面板回归
【基金】北京企业国际化经营研究基地项目(471402); 北京市哲学社会科学基金项目“北京战略性新兴产业培育国际知名品牌的影响因素与路径研究”(13JDJGC054); 教育部哲学社会科学研究重大项目“提升我国产品海外形象研究”(13JZD017)
【所属期刊栏目】北京工商大学学报(社会科学版)
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