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(010)晶面暴露的Bi_2MoO_6纳米片对土霉素和四环素的可见光催化降解

2014-09-15分类号:O643.32;X505

【作者】康勤书  汪圣尧  沈敏  戴珂  陈浩  
【部门】华中农业大学理学院  华中农业大学资源与环境学院  
【摘要】以(010)晶面暴露的Bi2MoO6纳米片作为光催化剂,通过改变溶液pH值、催化剂用量及目标降解物的初始浓度等考察Bi2MoO6纳米片对土霉素(Oxytetracycline,OTC)和四环素(Tetracycline,TC)在可见光下降解效果的影响;通过加入不同的自由基清除剂来考察光催化过程的机理。结果表明:光催化剂对OTC和TC的降解效果会因其在溶液中的存在形式不同而改变,随着溶液pH值的升高OTC与TC会发生逐级电离。在最佳pH值(pH=11)条件下,可见光辐照1h后,OTC与TC分别降解42.1%和58.8%(催化剂质量浓度为1.4g/L)。OTC和TC的光催化降解动力学研究表明,其降...
【关键词】Bi2MoO6  可见光  催化降解  土霉素  四环素
【基金】国家自然科学基金项目(21307035); 高等学校博士学科点专项科研基金项目(0100146110004)
【所属期刊栏目】华中农业大学学报
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