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带有工艺约束的并行多机调度策略

2008-03-15分类号:TP338.6

【作者】宁凝  钱省三  孟志雷  
【部门】上海理工大学管理学院  上海理工大学管理学院  上海理工大学管理学院 上海200093  上海200093  上海200093
【摘要】针对光刻设备组的生产特点,基于最小化加工时间对其调度问题建立了整数规划数学模型,并提出了一种启发式调度策略。运用Extend仿真软件对传统的FCFS和启发式调度策略分别进行仿真,结果表明,启发式调度策略在减少加工时间和提高设备利用率上皆优于FCFS。
【关键词】光刻区调度  工艺约束  并行多机  Extend仿真
【基金】教育部博士点基金资助项目(20050252008); 上海市重点学科资助项目(T0502)
【所属期刊栏目】工业工程
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