【摘要】对不同遮光条件下窄头橐吾Ligularia stenocephala形态及光合特性进行研究。结果表明:遮光处理对窄头橐吾形态特性有明显影响,在55%的遮光条件下,窄头橐吾具有较高的相对生长率。窄头橐吾的净光合速率日变化曲线在不同光照条件下均呈"双峰"型,在13:00出现明显的光合"午休"现象。在0(全光照),55%和75%遮光条件下,窄头橐吾的光补偿点分别为13.20,15.10和8.63μmol·m-2.s-1;光饱和点分别为919.66,749.20和727.34μmol·m-2·s-1;最大净光合速率分别为7.13,9.29和8.21μmol·m-2·s-1;表观量子效率分别为0.040...