【摘要】以茎尖为外植体,进行小西瓜离体快繁研究,建立了小西瓜茎尖再生体系。结果表明:小西瓜种子发芽的最适培养基为2FeMS;最适茎尖丛芽诱导培养基为MS1+BA 1~2 mg/L+IAA 0.01 mg/L,增殖系数高;最适继代培养基为MS4+BA 0.2 mg/L+NAA 0.05 mg/L;不定芽在培养基1/2MS+0.05 mg/L IAA上生根良好。