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稳定、快速、低温化学镀Ni-W-P工艺

2002-12-30分类号:TQ153.2

【作者】关永峰  胡三媛  徐方超  李长林
【部门】中国农业大学机械工程学院  中国农业大学机械工程学院   中国农业大学机械工程学院   中国农业大学机械工程学院 北京清华东路17号中国农业大学(东校区)61信箱  100083
【摘要】以 Ni- P化学镀工艺为基础 ,通过对 Ni- W- P化学镀工艺的均匀设计试验、试验结果的回归分析和优化 ,及不同温度和 p H镀液的施镀试验 ,得到了一种化学镀 Ni- W- P合金新工艺。镀温 70℃、p H7.5为最佳施镀条件 ,此时镀速大于 17μm.h-1,镀液稳定性大于 6 min,得到的镀层表面光亮、致密、无小坑。镀层性能检测结果表明 :镀层镀态硬度 86 5 HV,经 4 0 0℃ ,1h热处理后硬度为 15 6 6 HV,其硬度和耐磨损性能明显优于化学镀 Ni- P合金工艺镀层
【关键词】均匀设计  指标综合  工艺优化  性能检测
【基金】
【所属期刊栏目】中国农业大学学报
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