【摘要】基于专利合作数据，构建中国光刻机技术创新网络，运用社会网络分析法对当前中国光刻机技术创新网络的静态、动态结构特征进行分析；进一步，构建动态知识流动仿真模型对不同优化策略进行比较。结果表明：中国光刻机技术创新网络规模呈明显扩大趋势，逐步呈现以上海微电子等研发单位为核心节点的“核心-边缘”结构，产学研合作以“产-学”模式为主；光刻胶、光刻气体等配套设施研发机构处于网络边缘与技术链上下游节点技术交流水平有限；新加入网络节点对网络知识水平提升的贡献较小，且与网络合作紧密程度不高；研发方向优化、产学研合作模式优化、节点进退出机制优化三种优化策略均对网络知识水平提升具有显著调节作用，对中国光刻机技术创新网络均衡性及发展潜力的提升有着重要意义。