【摘要】以专利家族为研究视角,阐述技术路径动态演化过程中的路径依赖。专利家族自引会对技术主路径造成干扰,通过对主路径进行调整,提出一种修正技术主路径的新思路。研究发现:光刻技术在“投影对准和曝光系统—浸没式投影物镜—浸没式光刻材料—光刻胶”4个阶段经历了“路径消解—路径产生与路径依赖—路径消解与突破”的动态演化过程。在此过程中,以荷兰阿斯麦、德国蔡司和日本东京电子为代表的专利家族发挥重要作用。其中,以阿斯麦为核心的利益联盟垄断核心技术,强化光刻技术发展的路径依赖作用,占据市场领先地位。研究结论有助于深化对路径依赖理论的认知,通过揭示光刻技术路径演化过程及企业演化格局,为后发国家突破技术路径依赖提供了重要的实践启示。