科创企业研发投入对企业成长的双门槛效应研究
2021-06-10分类号：F273.1;F832.51
【部门】河北工业大学经济管理学院 复旦大学中国风险投资研究中心 哈尔滨工业大学经济与管理学院
【摘要】基于科创板上市公司2017—2019年面板数据,采用面板门槛模型,实证检验研发强度与企业成长的非线性关系。研究发现,研发强度与当期企业成长呈"倒V形"的非线性关系,最优研发强度应不超过4.42%;研发投入对企业成长的影响存在滞后效应,且只有当研发强度超过6.83%时才能促进下一期企业成长,二者呈"U形"的非线性关系;最优研发强度对当期企业成长的促进作用比对下一期更大。成果可辅助科创企业理性权衡短期风险与长期收益,实现最优研发强度。
【关键词】科创板 研发投入 研发强度 企业成长 面板门槛模型
【基金】国家重点研发计划资助项目“哈长城市群综合科技服务平台研发与应用示范”（2017YFB1401801）;; 国家自然科学基金重点项目“网络大数据环境下的金融创新及其风险分析理论研究”（71532004）;; 工业和信息化部重大项目“创新生态系统视角下航空航天产业军民科技协同创新发展路径研究”（GXZY2005）;; 国家广电总局部级社会科学研究项目“网络视听生态治理体系和实施路径研究”（GDT2007）;; 河北省创新能力提升计划项目“创新生态系统视角下河北军民科技协同创新机制研究”（205576144D）
【所属期刊栏目】科技管理研究
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