二维V型AlP半导体及其可调直接带隙
2021-08-05分类号:TN304
【部门】湖北科技学院电子与信息工程学院 咸宁职业技术学院教务处
【摘要】一种新型单分子层V型结构磷化铝(V-AlP)二维半导体材料被理论预测,且通过第一性原理计算,它的稳定性和电学性质也得到详细考察.在外加应力和电场作用下,其电子结构被有效地调控.计算结果表明它有很好的稳定性,且具有宽的直接带隙(2.6 eV).在双轴应力下,其带隙可以在(1~2.6 eV)范围内调控.在外加张力的作用下,其直接带隙可以转变成间接带隙.在不同的应力作用下,单层V-AlP的能带结构变化趋势明显不同,因此其表现出对外加应力的各向异性.当外加电场从5 V·nm~(-1)变为10 V·nm~(-1)时,单层V-AlP的带隙可以从0 eV线性调控到2.6 eV.研究结果表明应力和电场都可以有效地改变单层V-AlP的电子能带结构,因此这种二维V-AlP在纳米电子器件中有着广阔的应用前景.
【关键词】应力 电场 电子能带结构 稳定性 第一性原理计算
【基金】咸宁市科技局科学技术研究与开发项目(XNKJ-28);; 湖北省教育厅研计划项目(B2020153);; 湖北科技学院教学科研项目(2020-21X26; 2020-22GP01;2019-XB-018;2019-XA-007);; 国家自然科学基金项目(11747044)
【所属期刊栏目】华中师范大学学报(自然科学版)
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