粗糙面散射对太赫兹雷达成像的影响
2019-01-23分类号:TN957.52
【部门】清华大学自动化系
【摘要】传统毫米波安检雷达成像基于点目标假设而忽略了散射的影响,但随着频率提升至太赫兹(THz)频段,目标表面应视为粗糙而须考虑散射的影响。该文采用微扰法(SPM)求解粗糙表面的后向散射系数,在传统安检雷达成像模型的基础上模拟了不同粗糙度下的成像结果。通过与Lambert表面和理想镜反射表面的模拟成像结果对比,分析了粗糙度和频率等散射关键参数对太赫兹成像结果的影响。结果表明:在太赫兹安检雷达成像场景下,材料表面后向散射角越宽,成像质量越好;后向散射特性曲线的角宽度和形状共同影响成像分辨率和峰值旁瓣比;提高电磁波频率有利于粗糙表面成像。
【关键词】太赫兹 雷达成像 粗糙面散射 微扰法
【基金】国家重点研发计划(2016YFC0801200,2016YFC0801300,2017YFC0803700);; 国家自然科学基金项目(61722307,61675111,U1510208,61773233,61473164,61575103)
【所属期刊栏目】清华大学学报(自然科学版)
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