政府科技资助对企业R&D投入的门槛效应研究——基于中国医药制造业省际面板数据的实证研究
2018-08-20分类号:F273.1;F426.72;F812.45
【部门】沈阳药科大学工商管理学院
【摘要】基于中国医药制造业的视角,对政府科技资助与企业R&D投入的关系进行实证研究。利用中国医药制造业企业2000—2015年省际面板数据,采用系统广义矩估计法(SYS-GMM)和Hansen提出的"门槛回归模型",测算政府科技资助与企业R&D投入之间最优资助区间或强度。结果显示,政府科技资助与企业R&D投入之间不仅存在显著促进作用,还存在门槛效应。最优资助强度(政府科技资助与R&D投入比)为8.1%,随政府科技资助强度的增大,企业R&D投入呈现先增大再变小的趋势,当政府科技资助强度超过19.6%,为显著负相关,总体呈倒"U"型。根据研究结果,提出优化政府资源配置的建议。
【关键词】医药制造业 政府科技资助 R&D投入 门槛效应
【基金】辽宁省教育厅人文社会科学重点基金项目“医药企业技术创新能力影响因素及提升策略研究”(2017WZD02)
【所属期刊栏目】科技管理研究
文献传递