基于液滴锡靶LPP-EUVL光源多层膜的溅射损伤研究
2017-04-15分类号：O539
【部门】武汉工程大学理学院
【摘要】基于Navier-Stokes方程的自相似解,研究了最小质量限制液滴Sn靶激光等离子高能离子的时空分布特性,并将该结果应用于高能离子碎屑刻蚀导致的极紫外光刻(EUVL)光源收集镜寿命的评估.对于不同的绝热膨胀指数γ=1.67、1.3和1.1,数值计算了激光等离子体平均电离度、等离子体羽辉尺寸、羽辉膨胀速率和离子动能随时间的演化,并得到了高能Sn离子碎屑通量的角分布及其轰击溅射Ru、Mo和Si膜的溅射产额及溅射刻蚀速率.研究发现,激光液滴靶等离子体中的高能Sn离子对Mo,Si多层膜的溅射刻蚀率的角分布满足c
【关键词】激光等离子体 自相似膨胀 离子碎屑 溅射产额 极紫外光刻
【基金】国家自然科学基金项目(11304235);; 武汉工程大学校长基金项目(2014067);武汉工程大学科学研究基金项目(K201310)
【所属期刊栏目】华中师范大学学报(自然科学版)
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