研发强度与战略性新兴产业成长性研究——基于门限面板模型
2017-05-10分类号:F276.44;F273.1
【部门】华中科技大学
【摘要】本文以属于战略性新兴产业的A股上市公司为研究对象,使用门限面板模型研究了研发投入对成长性的非线性影响。研究结果表明,研发投入强度对战略性新兴产业的成长性存在显著的门限效应,随着研发强度的增加,其对成长性的促进作用表现出边际递减的规律。进一步基于空间异质性视角进行研究,结果表明:在东部、中部和西部地区分别存在唯一的门限值,在东部地区,研发强度对战略性新兴产业成长性始终表现为促进作用,而在中西部地区,研发强度一旦超过门限值,其对战略性新兴产业成长性转变为抑制作用。
【关键词】战略性新兴产业 研发强度 门限效应 空间异质性 成长性
【基金】
【所属期刊栏目】工业技术经济
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